阿斯麥展出新型“High NA EUV”設備

荷蘭光刻機制造商阿斯麥（ASML）當地時間2月9日在阿斯麥的荷蘭總部首次展出一臺新型“High NA EUV”光刻機。該公司稱，這款設備耗資3.5億美元，主要面向英特爾等高端半導體制造商。阿斯麥預計今年將出貨一部分，但在定製和安裝方面仍有工作要做。