EUV概念股 營運有看頭

極紫外光（EUV）概念股營運

微影設備大廠艾司摩爾（ASML）執行長溫彼得（Peter Wennink）於投資人會議中宣佈極紫外光（EUV）曝光機大擴產計劃，2025～2026年低數值孔徑（Low-NA）EUV機臺年產能將提高至90臺，高數值孔徑（High-NA）EUV機臺年產能將在2027～2028年擴增至20臺。

由於半導體業者對於生產鏈庫存修正在明年上半年結束已有高度共識，包括臺積電、英特爾、三星、SK海力士、美光等全球前五大半導體廠，未來幾年仍會積極建置EUV產能。法人樂觀看好家登（3680）、帆宣（6196）、公準（3178）、意德士（7556）等EUV概念股未來幾年營運將跟隨着ASML擴產而持續暢旺。

ASML在投資人會議揭示市場前景、產能計劃和商業模式新觀點，同時宣佈新的股票回購計劃。溫彼得針對成長機會的可能情境說明，儘管目前整體環境呈現短期的不確定性，但仍看到長期在晶圓需求與產能上的健康增長，在擴大應用領域和產業創新，將持續爲半導體市場注入成長動能。

溫彼得表示，新冠肺炎疫情帶動數位轉型持續加快腳步，相互連結的世界、氣候變遷及能源短缺、社會及經濟的典範轉移等三大面向，帶動包括人工智慧（AI）及邊緣運算、雲端及5G超連結、再生能源及節能減碳、電動車及自駕車、遠距工作及工廠自動化等新應用全面落地。

溫彼得表示，隨着各個市場的強勁成長及持續創新，更多晶圓代工廠的競爭及技術主權競爭，驅動市場對於先進製程與成熟製程的需求，因而需要更多晶圓產能。爲此，ASML計劃調整產能以滿足未來需求，爲週期性做好準備，同時與所有利害關係人公平分擔風險和回報。

隨着半導體終端市場的成長，和未來先進製程中對於微影設備的投資持續增加，將帶動客戶對ASML產品和服務的需求。ASML預期2025～2026年的EUV機臺年產能將增加至90臺，與目前55臺相較大幅成長，應用在2奈米及更先進製程的High-NA曝光機年產能會在2027～2028年達到20臺規模。