光刻機(膠)概念26日主力淨流出1.44億元,晶方科技、南大光電居前
6月26日,光刻機(膠)概念上漲3.11%,今日主力資金流出1.44億元,概念股69只上漲,5只下跌。
主力資金淨流出居前的分別爲晶方科技(8354.53萬元)、南大光電(2207.33萬元)、騰景科技(1718.55萬元)、鼎龍股份(1636.95萬元)、百川股份(1484.72萬元)。
本文源自:金融界
作者:主力情報
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