拉普拉斯取得氣體供給系統以及薄膜沉積設備專利，爲太陽能電池製造提供技術支持

金融界2024年12月6日消息，國家知識產權局信息顯示，拉普拉斯（無錫）半導體科技有限公司取得一項名爲“氣體供給系統以及薄膜沉積設備”的專利，授權公告號CN 222100143 U，申請日期爲2023年11月。

專利摘要顯示，本實用新型屬於太陽能電池製造技術領域，公開了一種氣體供給系統以及薄膜沉積設備，氣體供給系統用於向反應腔體提供氣體，氣體供給系統包括氧源系統、有機源系統、輔助氣路和真空尾排系統；氧源系統包括多種氧源迴路，多種氧源迴路分別連通於反應腔體，氧源系統用於選擇性地打開至少一種氧源迴路並向反應腔體提供至少一種預設氧源；有機源系統包括多種有機源迴路，多種有機源迴路分別連通於反應腔體，有機源系統用於選擇性地打開至少一種有機源迴路並向反應腔體提供至少一種預設有機源；輔助氣路連通於反應腔體，用於向反應腔體提供等離子體；真空尾排系統連通於反應腔體，用於對反應腔體、氧源迴路、有機源迴路和輔助氣路進行抽真空處理。

本文源自：金融界

作者：情報員