龍圖光罩申請掩模版刻蝕專利，提高掩模版刻蝕的效率和精度

金融界 2024 年 7 月 19 日消息，天眼查知識產權信息顯示，深圳市龍圖光罩股份有限公司，珠海市龍圖光罩科技有限公司申請一項名爲“掩模版刻蝕方法、裝置、設備以及存儲介質“，公開號 CN202410797921.9 ，申請日期爲 2024 年 6 月。

專利摘要顯示，本申請涉及半導體制造技術領域，所述掩模版刻蝕裝置包括：掩模版支撐臺，掩模版固定在掩模版支撐臺上方；遮蔽裝置，遮蔽裝置設置於掩模版支撐臺上方，遮蔽裝置包括遮蔽器和遮蔽器移動控制模塊，遮蔽器移動控制模塊用於檢測到遮蔽器的信號時，檢測掩模版的預設目標區域和遮蔽器形成的開窗區域，並將開窗區域與預設目標區域進行比較；當開窗區域與預設目標區域一致時，對掩模版進行刻蝕。本申請能夠解決如何提高掩模版刻蝕的效率和精度的技術問題。

本文源自：金融界

作者：情報員