美光競爭優勢多 臺日合作研發最先進製程2025年看「這裡」

臺灣美光董事長盧東暉表示，臺灣與日本團隊一起研發新一代的1-gamma製程，計劃2025年在臺中廠量產。（圖/報系資料照/曾麗芳攝）

臺灣美光董事長盧東暉表示，美光有多達65%的DRAM產品在臺灣生產，其中臺日團隊一起研發新一代的1-gamma製程，是美光第1代採用極紫外光（EUV）的製程技術，將在2025年上半年先在臺中廠量產。

臺灣美光董事長盧東暉上任1年多，歷經記憶體景氣驟變，從拚命追產能到今年初精簡人力，過程有如雲霄飛車。他接受中央社採訪團隊專訪時表示，這次景氣修正有很多「黑天鵝」事件一起發生，確實很嚴重，包括疫情和俄烏戰爭，但好的企業就是在碰到危境時能夠沉着應對。

盧東暉表示，美光這次領先示警半導體景氣要開始修正，並提前預做準備，如今終端客戶庫存不斷下降，市場將要探底，產能利用率見底回升；反觀韓國三星（Samsung）還要延長減產行動，他認爲美光比起競爭者有更多優勢。

盧東暉說，雖然目前尚未看到整個半導體產業景氣恢復，美光產能還未滿載，不過，DDR5需求越來越好，高頻寬記憶體（HBM）需求也慢慢變好。美光領先的HBM3和DDR5產品，在電競及生成式人工智慧（AI）應用市場頗受歡迎，年度營運計劃正往好的方向調整。

他強調，臺灣和日本是美光非常重要的製造中心，美光有多達65%的動態隨機存取記憶體（DRAM）產品在臺灣生產；繼日本廠於去年10月開始量產1-beta製程技術後，臺灣現在也開始量產1-beta製程。

相較上一代的1-alpha製程，美光最新的1-beta製程功耗降低約15%，位元密度提升超過35%，每顆晶粒容量可達16Gb，盧東暉看好1-beta製程與DDR5組合的產品性能。

盧東暉進一步指出，臺灣與日本團隊一起研發新一代的1-gamma製程，是美光第1代採用極紫外光（EUV）的製程技術，進度還不錯，計劃在2025年上半年量產。美光現在只有在臺中有EUV的製造工廠，1-gamma製程勢必會先在臺中廠量產，日本廠未來也會導入EUV設備。

不過，EUV設備不可能只用一代，盧東暉表示，1-gamma之後的1-delta等幾代製程技術還會延續採用EUV。至於DRAM製程會微縮到何時，他認爲目前沒有人會有答案。

盧東暉回想他在2000年加入英特爾（Intel）時，有人說65奈米之後邏輯電路就到盡頭，不解他爲何加入「夕陽工業」，如今臺積電已量產3奈米制程。

盧東暉說，「不能低估人類的創新能力」，目前看得到還有一些空間，DRAM以後也可能轉到3D DRAM，美光還是可以繼續往前發展。（編輯：林淑媛、張良知）