日本沖繩科學技術大學院大學：EUV光刻技術突破，功耗降低至傳統十分之一

【沖繩科學技術大學院大學研發新型EUV光刻技術，有望大幅降低半導體制造成本】

8月2日，沖繩科學技術大學院大學官網發佈最新報告，該校設計出一種極紫外光刻技術，該技術突破了半導體制造業的傳統界限。新型光刻設備採用更小的EUV光源，功耗僅爲傳統EUV光刻機的十分之一，顯著降低了成本。此外，新技術還大幅提高了機器的可靠性和使用壽命，爲半導體行業帶來重大變革。