21快評丨新凱來爲啥這麼火？

21世紀經濟報道記者 張賽男 上海報道

一年一度的SEMICON China展近日在上海閉幕，但有關新凱來的討論還遠沒有結束。

在這場全球最大規模半導體盛會上，新凱來成爲最出圈的“人氣王”，引發了產業內人士紛紛打卡。

新凱來對很多人而言是陌生的，但只要說起他國產半導體設備廠商的身份，即便是外行人，也能多多少少了解其含金量。因爲這恰恰直擊國產半導體產業鏈的痛點——設備是目前發展最爲薄弱的環節之一。

而這家於2021年才成立的半導體設備廠商，在此次展會上竟然一口氣演示了30餘款設備，分爲工藝裝備、量檢測裝備兩大系列，產品型號包括擴散產品、薄膜產品、光學檢測產品、光學量測產品等，幾乎覆蓋半導體制造全流程裝備，一時技驚四座。

在新凱來出圈後，市場紛紛猜測其來頭。從股權關係看，新凱來是一家純國企。企查查數據顯示，新凱來成立於2021年8月，註冊資本15億元，由深圳市深芯恆科技投資有限公司100%持股，股權穿透後，由深圳市國資委全資控股。

這意味着，自誕生之初，新凱來就與國家戰略高度契合，肩負打破半導體制造產業“卡脖子”的使命。

但在新凱來的走紅中，仍然有一些讓人費解的點。除了“自來水”的推波助瀾，新凱來似乎也在主動走到聚光燈下，無論是展臺面積之大，還是展出的產品數量之多，無疑都在體現這一點。

近年來，由於擔心被外界關注和狙擊，國內半導體企業都在傳播上變得低調和謹慎，主動蟄伏，極少大聲量傳播最新技術和產品。新凱來爲何反其道而行？

21世紀經濟報道記者發現，在2024年12月，美國商務部公佈對華半導體出口管制措施新規，在半導體設備限制上加碼，將136箇中國相關實體添加到“實體清單”，新凱來就赫然在列。

當時，在一衆知名企業雲集的半導體設備名單中，市場並未給予這家僅成立三年且未上市的新公司更多關注。

如果說是因爲已被國外盯上，新凱來就順勢而爲、大張旗鼓地進行宣傳，這未免有些牽強。其後的深意恐怕是，在國資護航、技術底子深厚、產品正常出貨的前提下，中國半導體設備廠商正在主動亮劍。

據其官網介紹，公司致力於半導體裝備及零部件、電子製造設備的研發、製造、銷售與服務。公司核心團隊具備20年以上電子設備技術開發經驗，並聯合了衆多國內半導體制造設備和零部件合作伙伴，爲國內半導體設備廠、FAB廠、電子電器設備廠、研究機構提供先進的解決方案，相關產品廣泛應用於國內頂級製造企業和研究、測試機構。

在其展示的衆多設備產品中，刻蝕及薄膜產品最受歡迎。而這兩大展臺的持續火熱，折射出半導體制造的難點：刻蝕精度決定芯片性能天花板，薄膜質量影響芯片的性能、可靠性和成本。

這些都顯示出新凱來正在進行聚焦性地突破。

例如刻蝕設備“武夷山”系列，首批發布的三款產品包括12英寸精細介質刻蝕設備武夷山1號MASTER（電容耦合等離子體CCP幹法刻蝕設備）、12英寸精細硅/金屬刻蝕設備武夷山3號（電感耦合等離子體ICP幹法刻蝕設備）以及12英寸高選擇性刻蝕設備武夷山5號（自由基幹法刻蝕設備）。這些設備針對不同的刻蝕工藝需求進行了優化設計，滿足了先進節點各類精細刻蝕場景需求。

薄膜沉積設備“阿里山”系列有三款產品。其中，阿里山1號是12英寸高保形性介質薄膜原子層沉積設備，搭配五邊形平臺和Twin腔領先架構，覆蓋先進邏輯/存儲前中後段介質薄膜應用場景，滿足圖形化，超薄薄膜，超高深寬比gap fill需求，支持向未來先進節點演進。阿里山2號是12英寸介質刻蝕阻擋層薄膜沉積設備，3號則是12英寸高深寬比金屬柵極原子層沉積設備，均支持向先進節點演進。

可作爲參考的是，刻蝕設備龍頭中微公司此前透露，公司開發的12英寸高端刻蝕設備已運用在國際知名客戶最先進的生產線上並用於5納米、5納米以下器件中若干關鍵步驟的加工。

值得注意的是，儘管12英寸的硅晶圓已成爲主流，且主要應用於先進的製程技術，但新凱來的設備究竟能應用在何種製程並未有公開消息。據媒體報道，有活動現場工作人員曾對外表示，其中一些機器（包括不在產品清單上的蝕刻工具）能夠支持更先進製程的芯片生產。另外，市場上最關注的EUV光刻機產品，新凱來此次展品並未涉及。

新凱來已來，但ASML、美國應用材料等企業也在加速技術迭代。例如ASML關注到先進封裝技術（如3D堆疊與2D封裝）成爲提升芯片密度和性能的重要手段，計劃於今年推出一款名爲XT:260的光刻系統，能顯著提升性能並降低晶圓成本。

而就市場佔有率而言，國產設備更有很長的路要走。在高端光刻機領域，ASML公司幾乎壟斷了全球市場。根據Gartner的數據顯示，應用材料產品譜系最爲全面，PVD設備獨佔85%細分市場份額；在ALD設備領域，2020年東京電子和ASM國際兩家廠商合計佔據了約60%的市場。

當然，新凱來在設備國產化的努力不容忽視。公司視頻強調了新凱來“100%自主可控”的機器控制系統和操作軟件，並大力宣傳該公司內部開發或通過戰略合作伙伴開發的“自主可控”關鍵部件。按照中微公司此前預告，公司的刻蝕設備也已經實現100%的元件國產替代。

需要指出的是，由於此次展示新凱來並未公佈更具體的參數，所以還需要更多的數據和應用實況來進行評判。市場上也有觀點認爲，作爲一家後起之秀，新凱來距離真正成熟商用還需要時間檢驗，同時新凱萊也要在競爭中走出差異化路線。

國產半導體設備被壓制了太久，市場急盼有一個公司能帶領行業進入DeepSeek時刻，而新凱來在某種程度上確實展露出這種實力，其走紅便顯得順理成章。但半導體設備的研發並非一朝一夕之功，也僅非一家公司能逆轉形勢，需要更多的新凱來們繼續拿下一個個山頭，直到摘下人類工業皇冠上最後的一顆明珠“光刻機”。